Quelle est la différence entre les plaquettes de silicium polies et les plaquettes épitaxiales ?

Selon la classification des utilisations, les plaquettes de silicium semi-conductrices peuvent être divisées en plaquettes polies, plaquettes recuites, plaquettes épitaxiales, plaquettes d'isolation de jonction et plaquettes de silicium haut de gamme représentées par les plaquettes de silicium SOI. Quelle est donc la différence entre les plaquettes de silicium polies et les plaquettes épitaxiales ?
Les plaquettes polies peuvent être utilisées pour fabriquer des puces de mémoire, des dispositifs d'alimentation et des matériaux de substrat pour les plaquettes épitaxiales. La plaquette épitaxiale est une couche de silicium monocristallin développée sur une plaquette polie. Elle est généralement utilisée dans la fabrication de puces de processeur générales, de diodes et de dispositifs d'alimentation IGBT. Étant donné que les particules de polissage d'origine sont fines et que la taille des particules est inférieure à la longueur d'onde de la lumière visible, elles sont uniformément réparties pour former un film de polissage transparent ou translucide.