Plaquette de silicium de 200 mm
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Plaquette de silicium de 200 mm

Plaquette de silicium de 200 mm

Notre produit phare, les plaquettes de silicium de 200 mm, est conçu pour répondre aux exigences générales de la fabrication moderne de semi-conducteurs. Avec des options de personnalisation complètes disponibles pour le diamètre, l’épaisseur et d’autres paramètres, nos plaquettes garantissent précision et performances dans une variété d’applications avancées.

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Présentation du produit
Présentation du produit

 

Notre produit phare, les plaquettes de silicium de 200 mm, est conçu pour répondre aux exigences générales de la fabrication moderne de semi-conducteurs. Avec des options de personnalisation complètes disponibles pour le diamètre, l’épaisseur et d’autres paramètres, nos plaquettes garantissent précision et performances dans une variété d’applications avancées.

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Spécifications clés

 

Diamètre

200 mm

Grade

Premier / Test / Factice

Méthode de croissance

CZ (Czochralski) / FZ (zone flottante)

Orientation

<100>, <111>, <110>, <511>, <311>

Type/Dopant

Type P (Bore), Type N (Phosphore, Arsenic, Antimoine)

Épaisseur

725 μm, 775 μm et épaisseurs personnalisées disponibles sur demande

Tolérance d'épaisseur

Norme ± 25 μm ; Capacités maximales ± 5 μm

Résistivité

0,001 à 100 ohm-cm

Finition de surface

P/E (Poli/Gravé), P/P (Poli/Poli), E/E (Gravé/Gravé)

Variation d'épaisseur totale (TTV)

Norme < 10 μm ; Avancé < 5 μm

Arc/chaîne

Norme < 40 μm ; Avancé < 20 μm

 

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