Plaquette de silicium de 200 mm
Notre produit phare, les plaquettes de silicium de 200 mm, est conçu pour répondre aux exigences générales de la fabrication moderne de semi-conducteurs. Avec des options de personnalisation complètes disponibles pour le diamètre, l’épaisseur et d’autres paramètres, nos plaquettes garantissent précision et performances dans une variété d’applications avancées.
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Présentation du produit
Présentation du produit
Notre produit phare, les plaquettes de silicium de 200 mm, est conçu pour répondre aux exigences générales de la fabrication moderne de semi-conducteurs. Avec des options de personnalisation complètes disponibles pour le diamètre, l’épaisseur et d’autres paramètres, nos plaquettes garantissent précision et performances dans une variété d’applications avancées.



Spécifications clés
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Diamètre |
200 mm |
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Grade |
Premier / Test / Factice |
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Méthode de croissance |
CZ (Czochralski) / FZ (zone flottante) |
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Orientation |
<100>, <111>, <110>, <511>, <311> |
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Type/Dopant |
Type P (Bore), Type N (Phosphore, Arsenic, Antimoine) |
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Épaisseur |
725 μm, 775 μm et épaisseurs personnalisées disponibles sur demande |
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Tolérance d'épaisseur |
Norme ± 25 μm ; Capacités maximales ± 5 μm |
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Résistivité |
0,001 à 100 ohm-cm |
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Finition de surface |
P/E (Poli/Gravé), P/P (Poli/Poli), E/E (Gravé/Gravé) |
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Variation d'épaisseur totale (TTV) |
Norme < 10 μm ; Avancé < 5 μm |
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Arc/chaîne |
Norme < 40 μm ; Avancé < 20 μm |
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