Plaquette de silicium hautement dopée
video
Plaquette de silicium hautement dopée

Plaquette de silicium hautement dopée

Nos plaquettes de silicium hautement dopées sont conçues pour les applications nécessitant une faible résistivité et une conductivité électrique améliorée. En introduisant une concentration élevée d'éléments dopants tels que le bore (type P) ou le phosphore (type N), ces tranches atteignent une résistivité considérablement réduite, ce qui les rend idéales pour les composants électroniques avancés, les dispositifs de puissance et les circuits hautes performances.

  • Livraison rapide
  • Assurance qualité
  • Service client 24h/24 et 7j/7
Présentation du produit
Présentation du produit

 

Nos plaquettes de silicium hautement dopées sont conçues pour les applications nécessitant une faible résistivité et une conductivité électrique améliorée. En introduisant une concentration élevée d'éléments dopants tels que le bore (type P) ou le phosphore (type N), ces tranches atteignent une résistivité considérablement réduite, ce qui les rend idéales pour les composants électroniques avancés, les dispositifs de puissance et les circuits hautes performances.

WechatIMG42
WechatIMG44
WechatIMG60
Principales fonctionnalités

 

Faible résistivité

Nos plaquettes hautement dopées offrent une résistivité extrêmement faible, en fonction de la concentration en dopant, allant généralement de {{0}},001 ohm-cm à 0,1 ohm-cm pour les applications de type P et de type N.

Types de dopants

• Type P : Bore (pour les porteurs de charge positive)

• Type N : Phosphore, Arsenic, Antimoine (pour les porteurs de charge négative)

Orientation des cristaux

<100>, <111>, <110>(orientations personnalisées disponibles)

Diamètres disponibles

2 pouces, 4 pouces, 6 pouces, 8 pouces, 12 pouces

Niveaux de qualité

Premier / Test / Factice

Méthodes de croissance

CZ (Czochralski) / FZ (zone flottante)

Options d'épaisseur

275 μm, 380 μm, 525 μm, 625 μm, avec épaisseurs personnalisées disponibles

Finitions de surface

P/E (Poli/Gravé), P/P (Poli/Poli), E/E (Gravé/Gravé)

Variation d'épaisseur totale (TTV)

Norme < 10 μm ; Avancé < 5 μm

Arc/chaîne

Norme < 40 μm ; Avancé < 20 μm

 

étiquette à chaud: plaquette de silicium hautement dopée, Chine fabricants de plaquettes de silicium hautement dopées, fournisseurs, usine

Vous pourriez aussi aimer

(0/10)

clearall