Noyau de plaquette de silicium
Notre noyau de plaquette de silicium assure la stabilité du matériau.
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Présentation du produit
Noyau de plaquette de silicium
Nos solutions de plaquettes de silicium sont conçues à partir du niveau atomique, en utilisant desCzochralski (CZ)etZone flottante (FZ)méthodologies de croissance cristalline pour garantir une structure de réseau ultra-pure et sans défauts-. Prenant en charge l’ensemble du spectre industriel depuis2 pouces (50 mm) à 12 pouces (300 mm), ces substrats servent d'hôte à haute-intégrité pour une croissance épitaxiale complexe et une implantation ionique à haute-dose.
Nous maintenons un seuil agressif pour la teneur en oxygène et en carbone interstitiels, ce qui est essentiel pour garantir la stabilité thermique et empêcher les précipitations pendant les cycles de recuit sous vide poussé-les plus volatils. En optimisantplanéité globale et-spécifique au site (TTV et SFQR), nos plaquettes facilitent une profondeur de-de-mise au point (DOF) étendue dans la photolithographie sub-micronique avancée, ce qui est directement corrélé à une augmentation significative du rendement final de votre appareil.
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