Substrat de disque de plaquette de silicium

Substrat de disque de plaquette de silicium

Nos substrats de disques en silicium haut de gamme sont conçus pour fournir une base robuste et ultra-stable pour la fabrication avancée de semi-conducteurs. Couvrant tous les diamètres standards de2 pouces (50 mm) à 12 pouces (300 mm), ces substrats constituent le choix préféré des fonderies et des IDM axés sur la fabrication d'appareils électroniques-hautes performances.

Avantages techniques de base :

Pureté électronique- :Nous fournissons 100 % de silicium de qualité semi-conducteur (EG) avec des niveaux de pureté-de pointe, garantissant une mobilité supérieure des porteurs et des performances stables des appareils sans risque de-contamination croisée.

Précision au niveau du micron- :Chaque disque est traité pour répondre aux spécifications strictes de variation d'épaisseur totale (TTV) et de déformation, permettant une photolithographie de haute-précision et un dépôt multicouche-complexe.

Uniformité exceptionnelle des matériaux :Nous garantissons une résistivité et une teneur en oxygène/carbone constantes dans tout le matériau, garantissant ainsi des résultats reproductibles sur des lots de production à grande échelle.

Fiabilité structurelle :Conçus pour maintenir leur intégrité sous des températures-extrêmement élevées et des contraintes mécaniques, nos substrats sont optimisés pourDispositifs de puissance (IGBT/MOSFET), microélectronique RF et MEMS.

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